纯水Ultra性能的高级定制，各行业超纯水质一览
以下是奥特整理的不同行业纯水/超纯水水质标准速查表，涵盖关键参数范围与典型应用场景，供您快速比对参考。
水质类型
其中工业用超纯水具体还可能需要满足其他特定的要求，不同国家和地区对于工业纯水标准的要求可能会略有差异，在选择和使用工业纯水时，应参考相应的规定和标准。
超纯水系统流程
奥特专注于超纯水行业23年，为高新技术企业提供超纯水一体化解决方案。主要服务方向为半导体制造、光伏行业、医药生产、实验室等对水质要求极高的行业。
高精密行业超纯水标准
美国电子和半导体水质标准 ASTM D5127-13(2018)
适用于电子和半导体工业用高纯清洗用水
中国国家标准《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)
适用于电子和半导体工业用高纯清洗用水
备注：中国《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)的EW-I级电阻率(≥18 MQ·cm)与ASTM Type E-1.2接近，但TOC和金属离子指标更宽松(TOC≤20 ppb vs.ASTM的≤1 ppb)，ASTM D5127-13(2018) 是更广泛的水质分析标准。
半导体制造中超纯水“致命”应用场景
半导体行业用水水质中，电阻率，微粒子，气泡（溶解氧，溶解氮)和TOC是非常重要的指标，略微差异，可能导致半导体元器件生产过程的产品质量和合格率的下降。
1.晶圆清洗：
金属离子（Na⁺、K⁺、Fe²⁺）<0.1 ppt（1万亿分之一）
颗粒数<5个/mL（≥20nm）
2.光刻：
TOC<0.5ppb（EUV要求<0.3ppb）
溶解氧<2ppb
微粒：≥10nm <1/mL
3.湿法刻蚀：
Na⁺、K⁺：<0.1 ppt（parts per trillion）
Fe²⁺、Cu²⁺：<0.05 ppt（部分先进工艺要求<0.01 ppt）
4.化学机械抛光（CMP）：
硅溶胶<5ppb（防止抛光垫堵塞）
细菌<0.1CFU/mL
大颗粒（≥50nm）绝对零容忍
奥特超纯水方案定义半导体“量子级纯度”
突破理论极限的水质标准
在某5m3/hr-SIC 超纯水改造项目中，通过一级RO→二级RO→EDI→混床→UF→UV多级协同净化工艺链使电阻率稳定突破18.25MΩ·CM半导体黄金标准。
中国国家实验室分析用水标准（GB/T6682-2008）
备注：由于一级水、二级水的纯度下，难于测定其真实的 pH 值，因此,对一级水，二级水的 pH 值范不做规定。
其他：
奥特作为一家由专业服务于高端制造业的纯水制造商，不仅能即时掌握新型技术，更能与市场脉动同步，够为客户提供国际高水质标准和降本解决方案。具体参数需结合需求和工艺细节调整，建议联系我们获取定制化水质方案。
